Первый российский серийный литограф для производства 350-нм чипов поставят в декабре 2026 года

Изображение сгенерировано нейросетью

Первая российская литографическая установка для производства чипов по технологии 350 нм должна быть сдана заказчику в самом конце 2026 года. Первый экземпляр литографа будет отгружен интегрированной в холдинг «Швабе» компании «Маппер», а второй экземпляр установки достанется фирме «Отраслевые решения» из ГК «Элемент».

Разработчиками литографа выступают Зеленоградский нанотехнологический центр, также известный как ЗНТЦ, и белорусская компания «Планар». Продукция, выполненная по технологическим нормам 350 нм используется при выпуске как силовой, так и автомобильной электроники, а также деталей для различного промышленного оборудования.

Установка работает с пластинами, имеющими диаметр до 200 мм. По производительности отечественный литограф способен обрабатывать 63 пластины на 150 мм или 43 пластины на 200 мм в час.

Стоимость базовой конфигурации — 392 млн рублей без учета НДС. Версия с расширенным сервисом и гарантией в течение пяти лет обойдется в 561 млн рублей, что до 60 % дешевле сравнимых зарубежных аналогов. На производство одной установки уходит около 18 месяцев с момента внесения 50-процентной предоплаты.

Разработка отечественных литографов на этом не остановится. Следующий шаг — серийный литограф под нормы 130 нм, также создаваемый в ЗНТЦ совместно с «Планаром». Прототип установки был продемонстрирован в августе 2026 года, затраты на опытно-конструкторские работы оцениваются в 5,7 млрд рублей. Запуск в серию 130-нанометровых установок планируется в 2027 году.