28.09.2026, 22:00
Изображение сгенерировано нейросетью Не так давно в России наладили выпуск 350-нм литографов, а теперь отечественные специалисты при поддержке белорусских коллег изготовили опытный образец литографической установки, которая позволяет выпускать полупроводниковую продукцию по технологическим нормам 130 нм. Об этом рассказал первый вице‑премьер РФ Денис Мантуров в ходе проведения форума «Микроэлектроника 2026». Одной из ключевых разработок в рамках данного […]
Читать весь текст →