В России появится САПР для разработки чипов под 90-нм техпроцесс

Изображение иллюстративное

На этой неделе Минпромторг объявил тендер на создание программного обеспечения, на базе которого будет основаны российские системы автоматизированного проектирования (САПР). С их помощью станут подготавливать и изготавливать фотошаблоны, ориентированные на техпроцесс 90 нм. Что любопытно, по заданию они должны иметь совместимость с некоторыми белорусскими генераторами шаблонов.

Конкурс был объявлен в последних числах апреля, а общая стоимость проекта составляет немногим менее одного миллиарда рублей. Работы требуется завершить к концу осени 2028 года. В создаваемое ПО должны входить несколько основных блоков, включая модули загрузки технических данных, визуального наблюдения за процессором, создания эскизов, сборки фотошаблонов, а также ряд сопутствующих инструментов, обеспечивающих подготовку технической документации.

Данная программа продолжает курс на максимальное импортозамещение в области проектирования полупроводниковой продукции. Российские разработчики до 2022 года применяли в своей работе зарубежные решения Synopsys, а также Cadence, однако с установлением санкций в отношении России они стали недоступны, после чего Минпромторгом была утверждена «дорожная карта» по развитию САПР на период до 2030 года с общим финансированием в объеме почти 55 млрд рублей.

Согласно озвученным ранее планам, к 2030 году российскими IT-разботчиками будет представлено порядка 100 платформ автоматизированного проектирования, предназначенных для различных направлений, а немного позднее, после 2030 года, стартует активная разработка подобного программного обеспечения под 28-нм технологические нормы.